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                  產(chǎn)品展示 / products 您的位置:網(wǎng)站首頁(yè) > 產(chǎn)品展示 > 美國禾威(WALCHEM)自動(dòng)添加控制器 > > WNI鍍鎳成套自動(dòng)添加系統

                  WNI鍍鎳成套自動(dòng)添加系統

                  簡(jiǎn)要描述:美國WALCHEM鍍鎳-WNI310系列現以統一升級為WNI410系列. 我們知道,化學(xué)鍍鎳溶液的穩定反應,主要是由三個(gè)重要參數決定的,他們分別是:溶液中各種離子的濃度、溶液的穩定的工作溫度、溶液穩定的PH值,針對如上的化學(xué)鍍鎳實(shí)際情況,本公司設計、開(kāi)發(fā)了美國WALCHEM鍍鎳自動(dòng)添加系統控制器,該控制儀可以完成化學(xué)鍍鎳需要的控制功能

                  • 產(chǎn)品型號:
                  • 廠(chǎng)商性質(zhì):代理商
                  • 更新時(shí)間:2023-03-10
                  • 訪(fǎng)  問(wèn)  量:4580
                  詳情介紹

                   

                  美國WALCHEM鍍鎳-WNI310系列現以統一升級為WNI410系列.
                   
                  我們知道,化學(xué)鍍鎳溶液的穩定反應,主要是由三個(gè)重要參數決定的,他們分別是:溶液中各種離子的濃度、溶液的穩定的工作溫度、溶液穩定的PH值,針對如上的化學(xué)鍍鎳實(shí)際情況,本公司設計、開(kāi)發(fā)了美國WALCHEM鍍鎳自動(dòng)添加系統控制器,該控制儀可以完成化學(xué)鍍鎳需要的控制功能。
                   
                  WNI411-541系列控制器是應用光電原理在線(xiàn)分析電鍍缸內鍍鎳溶液濃度的變化,能以克每升(g/L)或液盎司每加侖(oz/gal)來(lái)顯示。使用此控制器在鍍鎳缸上能減少人工滴定檢驗的需要并增加生產(chǎn)能力,當到達zui大"金屬消耗"時(shí)更能自動(dòng)地提示使用者從而減少資源浪費及增加電鍍缸的壽命。
                   
                  系統內置控制器,主要測量鎳濃度及PH值,能控制藥泵自動(dòng)添加各類(lèi)藥液。所以配備了WNI鍍鎳自動(dòng)添加系統的必要配置有以下幾種:
                  WNI鍍鎳控制器,②消泡器,③冷卻器,④ph電極(配件編號:51158)⑤鍍鎳控制探頭(配件編號:190784),⑥藥液抽樣泵,⑦藥液添加泵A,B,C 3.
                   
                  控制器細節如下:
                   
                  細節
                   
                  外殼       PP
                  尺寸       L53*D62*H140cm
                  顯示器     2行,每行可顯示16個(gè)英文
                  字母的背光源液晶顯示屏
                  工作溫度   32-158℉(0-70℃)
                  儲藏溫度   -20-176℉(-29-80℃)
                  溶液溫度  zui高176(80℃)
                  裝運重量  30KG
                   
                  測量規格
                   
                          濃度     酸鹼度     溫度
                   
                  范圍    0.1-10g/L   0-14pH   0-80℃
                         
                  分辯率 0.01g/L    .001pH     .05℃
                   
                  準確度 0.1g/L     ±.01pH     ±.1℃
                   
                  注:鍍液流量需為400---500毫升/分鐘;
                  冷卻水流量需為800----1000毫升/


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